多晶硅是用工業硅通過化學、物理途徑提純制得，多晶硅主要用于生產單晶硅和衛星太陽能電池。單晶硅即硅半導體是多晶硅的衍生產品，是制造繼承電路和電子元件的優質材料，被廣泛應用于電子工業中。

還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個運行周期內，硅棒不斷長大，一個運行周期結束后打開鐘罩收割硅棒。但在運行期內，基盤及鐘罩表面均會產生一層土黃色粉末，其主要成分是無定形硅。在收割硅棒后，需要進行基盤和鐘罩的清理，再裝硅芯進行下一個周期的化學氣相沉積。
 
還原爐鐘罩污染物易造成內表面熱量反射減少，使生產能耗增加；電極周圍污染物降低了點擊的絕緣而導致運行過程中接地故障、倒棒等生產事故。而用于電子行業的多晶硅對產品質量純凈度的控制要求更高，

隨著我國半導體工業發展，對多晶硅純度要求越來越高，還原爐沉積環境的潔凈度就顯得特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質余留在爐內，都會對產品質量造成影響。那么，如何清理能方便快捷，同時效果更佳？

多晶硅還原爐清洗系統始于2009年，國內第一家研發設計制造并獲得實用新型專利是北京德高潔清潔設備有限公司，該公司多晶硅還原爐鐘罩清洗系統覆蓋了國內多家多晶硅生產企業。早期有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等，但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗方式不僅不能將鐘罩清洗干凈，還會損傷表面鍍銀的還原爐鐘罩，為攻克這一難題，一款全新的用于電子級的多晶硅還原爐鐘罩清洗系統應運而生。

電子級多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統特點：

1、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統以水為動力，以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射。

2、采用可以旋轉和升降的清洗吹干執行機構，根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位。可自動切換不同清洗液及吹干，通過控制系統可對清洗、吹干時間等進行調整。清洗時只需一鍵操作即可，操作簡單方便。

3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級后的清洗工作臺，不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。

4、在整個還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過排污管排出，從而保證了整個過程不會對潔凈區造成污染。
 
經過實際應用，多晶硅還原爐清洗系統整套系統可實現全自動化清洗操作，在一個工作平臺上，一次吊裝可依次實現自動清洗烘干全部功能，完全實現無死角清洗，同時具有完善的聯鎖和保護功能。